Descripción del servicio
ALD ofrece el control exacto de deposiciones a escala atómica. ALD es una tecnica reconocida para su calidad de película.
El principio de ALD está basado en la emisión de pulsos secuenciales de vapores de precursores especiales, cada uno forma aproximadamente una capa atómica cada pulso. El sistema Cambridge NanoTech, como el Savannah, está diseñado para depositar capas sin pinhole que son perfectamente uniformes en el grosor, hasta dentro de poros, trincheras y cavidades. Alta capacidad de depositar sobre substrato con alta relación de aspecto. Si se rrequiere tener una película más gruesa se puede repetir el ciclo varias veces.
Cuadro de opciones y precios
Opciones |
Unidad |
Sector Público |
Otros Clientes |
Deposición Física desde Fase Vapor ALD |
€ / hora |
64.99 € |
80.85 € |
Deposición Física desde Fase Vapor ALD con precursor |
euro / hora |
74.4 € |
89.89 € |