Deposición física desde fase vapor: Sputtering DC

El laboratorio de capas finas permite fabricar capas finas de óxidos complejos mediante depósito con láser pulsado (PLD), y de metales y aleaciones mediante pulverización catódica (sputtering) usando cátodos con magnetrón. Dispone de varias cámaras de procesado integradas en una estructura tipo cluster, con una cámara central de distribución a la que están conectadas dos unidades de PLD (una de ellas equipada con reflection high energy electronn diffraction (RHEED) permitiendo análisis en tiempo real, incluso en condiciones de alta presión), una cámara de metalizaciones equipada con tres magnetrones, y una cámara de almacenamiento para unas decenas de muestras (pronto podrá conectarse unavacuum suitcase). El acceso a todas las cámaras de procesado se hace mediante precámaras, siendo la presión base del orden de 10-8 mbar. Las capas pueden depositarse con T > 800 ºC, en atomósfera de O2 en caso de PLD y Ar en caso de sputtering.

Cinco laboratorios de Sala Blanca clase 10.000 (ISO7): Lab. de litografía óptica Avanzada, Lab. de Caracterización de materiales funcionales en la nanoescala, Lab. de caracterización físico-química y Nanofabricacion, Lab. de síntesis Química y Laboratorio de alto control de humedad, para la deposisión de soluciones no-acuosas y el crecimiento de nanoestructuras; El laboratorio Nanoquim esta dedicado a la nanoestrucutración de materiales obtenido por procedimientos químicos, lo que contituye la caracterítica más distitiva de la Plataforma Nanoquim. Hay instalados unos 30 equipos científicos diferentes en la instalación, destinados al control de las propiedades físico-químicas de soluciones, equipamiento para la deposición y la nanoestrucutración, crecimiento de Nano-materiales, caracterización de películas delgadas, caracterización en la nanoescala, grabado selectivo físico-químicos para metales, óxidos y polímeros y equipamiento para contactos electrícos y litografía.