Grabados secos por plasma (RIE)

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Equipo: PlasmaLab80 Plus. Plasma: ICP (Inductively Coupled Plasma). Gases: SF6, CHF3, Cl2, BCl3, NH3, CO, CH4, H2, O2, N2, Ar. Características: puede atacar cualquier clase de material (conductores, semiconductores y aislantes) como por ejemplo Nb, semiconductores III-V, HfO2, SiO2, SiNx... El equipo Lab 80 Plus forma un plasma para crear iones de las moléculas del gas. Los iones son dirigidos por un campo eléctrico hacia la superficie de la muestra, donde acaban colisionando. El ataque se produce tanto por los átomos que se arrancan como por las reacciones químicas que tienen lugar en las superficie de la muestra. Se consiguen patrones grabados en la superficie de una muestra, si ésta la cubrimos con una máscara con ventanas, cuyo material se ataque más lentamente que la muestra.