Bases y Aplicaciones de la difracción de polvo: Análisis cuantitativo, microestructural y método Rietveld (4ta Edición)

El objetivo principal de este curso intensivo es ofrecer una formación especializada en el uso de métodos de análisis avanzados de difracción de rayos X de polvo. Se pretende que el alumno adquiera conocimientos y, fundamentalmente, práctica en métodos de ajuste de perfil sin modelo (Pawley y Le Bail) y con modelo estructural (método Rietveld) dirigidos a aplicaciones de interés científico e industrial. Se hará especial énfasis en el análisis cuantitativo de fases cristalinas, cuantificación de fases amorfas, análisis microestructural (tamaño de cristalito y microdeformaciones) y refinamiento por el método Rietveld.
El curso estará centrado en el manejo del software TOPAS y sus aplicaciones a la resolución de  diferentes problemas de caracterización y análisis mediante difracción de polvo.

Este curso esta orientado a diplomados, graduados o licenciados y doctores con experiencia e interés en la caracterización de materiales mediante difracción de rayos X de polvo. Es aconsejable que el alumna tenga conocimientos basicos del metodo de difracción de rayos X de polvo y
cristalograffa. Es necesario que cada alumna traiga su ordenador portatil personal con Windows 1 O y con privilegios de administrador, para la instalación del software usado en el curso.