Otras técnicas de fabricación: Ablación láser de óxidos funcionales

Descripción del servicio

El laboratorio dispone de dos equipos de Pulsed laser deposition (PLD) integrados en un cluster con otras cámaras, incluyendo un sistema de sputtering. Uno de los dos sistemas de PLD está equipado con un sistema de caracterización reflection high energy electron diffraction (RHEED), permitiendo análisis en tiempo real incluso en condiciones de alta presión de oxígenos. El acceso a todas las cámaras de procesado se hace mediante precámaras, siendo la presión base del orden de 10-8 mbar. Las capas pueden depositarse con T > 800 ºC, en atomósfera de O2. Cada cámara dispone de un sistema portablancos para cinco blancos, con sistema de escaneo xy. Tanto los calefactores de los substratos, el portablancos y la ventana de introducción del haz láser son extraíbles sin presurizar la cámara. El proceso de ablación se realiza con un láser de excímero KrF, con emisión a 248 nm.