Estado de desarrollo: Dispositivo validado en laboratorio

Propiedad industrial: Patente PCT solicitada

Colaboración Propuesta: Licencia y/o codesarrollo

Solicitud de información: Alfonso del Rey

Vicepresidencia de Innovación y Transferencia

adelrey@icmab.es

comercializacion@csic.es

Referencia: CSIC/AF/012

Información adicional

Adjunto

FOLLETO ES CSIC/AF/012

LEAFLET EN CSIC/AF/012

#Electrónica #Chips / Circuitos / Micro y nanoelectrónica #Materiales #Micro y Nanomateriales

Dispositivo de sublimación por vacio

Nuevo dispositivo de sublimación por vacío. El dispositivo permite depositar el material de interés directamente en la superficie en la que se desea trabajar sin necesidad de depositar en superficies receptoras intermedias o el uso de disolventes u otras sustancias intermedias para su depósito.

Necesidad del Mercado: Los métodos de sublimación por vacío se utilizan, por una parte, para la purificación y recristalización de moléculas y, por otra parte, para estudiar la reactividad de los materiales sobre los diferentes substratos.
Con los métodos actuales más sencillos se deben depositar los materiales cristalinos en superficies que no son las de interés, necesitándose pasos posteriores para depositar sobre los sustratos elegidos. Los métodos que permiten la sublimación directa utilizan equipos de sublimación de ultra alto vacío, equipos complejos, que implican una mayor dificultad a la hora de preparar las muestras.

Solución propuesta: El nuevo dispositivo permite una sublimación directa y sencilla en superficies, abriendo un abanico de posibilidades sobre la naturaleza de dicha superficie, incluyendo la posibilidad de que ésta sea, por si misma, un dispositivo aplicable. El nuevo sublimador permite la regulación de la distancia entre el material y la superficie con el beneficio de poder optimizar y controlar parámetros en la sublimación, como pueden ser la temperatura y la presión.

Ventajas competitivas

Deposición directa sobre la superficie de interés.
El dispositivo se puede utilizar en laboratorios estándar de I+D.
Distancia regulable substrato-muestra para un control y reproducibilidad de la sublimación.
Dispositivo de bajo coste con piezas intercambiables y fáciles de reemplazar.
Aplicable a un número elevado de superficies de diferentes naturalezas, dimensiones y funciones, incluyendo dispositivos finales.