NUEVO MÉTODO PARA DEPOSICIÓN SELECTIVA DE CAPAS FINAS BASADO EN UN CONJUNTO DE MÁSCARAS METÁLICAS AUTO-ALINEADAS

El CSIC ha patentado un nuevo método de shadow-masking basado en un conjunto de máscaras metálicas autoalineadas, que permite la metalización selectiva de dispositivos y substratos microelectrónicos para la implementación de pistas y contactos. El método propuesto evita los procesos químicos o fotolitográficos. Es sencillo, económico y proporciona muy buena resolución (del orden de decenas de micras). Se buscan socios industriales principalmente que trabajen en tecnología de fabricación de contactos metálicos y/o deposición de películas delgadas. En general se están buscando para colaborar en la implementación de esta tecnología y para explotar los conocimientos técnicos existentes por medio de un acuerdo de licencia de patente.