Scanning probe microscopy: C-AFM (Conductive Atomic Force Microscopy)

El Laboratorio posee dos técnicas de análisis de superficies: -Espectroscopía Fotoelectrónica de rayos X (XPS), VG Microtech, modelo MT 500, (Fisons Instruments), con una fuente de Rayos X dual (Mg/Al), detector CMA de tres channeltron y cañón de iones EX05 para el bombardeo por iones Ar -Microscopía de fuerza atómica (AFM), marca Agilent modelo 5100. Se trata de un laboratorio con Sistema de Gestión de Calidad (ISO 9001:2008) con certificado nº SGI 6016951. El análisis por XPS proporciona información sobre la composición elemental y el estado químico de cada elemento. En combinación con el bombardeo con iones Argón (A.I.B.) se pueden obtener perfiles de composición hasta un máximo de 100nm. El análisis por AFM permite obtener una medida de la topografía y rugosidad de muestras sólidas tanto en aire como en líquidos. Dependiendo de la punta es posible obtener información sobre otras propiedades superficiales (medida de diferencias de potencial (SKP), conductividad, etc.

Servicio centrado en la caracterización de superficies por métodos de microscopía de sonda local (Scanning probe microscopies, SPM) en condiciones ambientales y con posibilidad de atmosfera controlada (N2). Mayoritariamente centrado en el uso de microscopía de fuerzas atomicas (AFM). Capacidad de realizar medidas de topografía tanto en modos dinámicos como contacto y medidas avanzadas con las siguientes técnicas: friction force microscopy (FFM), electrostatic force microscopy (EFM), Kelvin probe force microscopy (KPFM), piezoresponse force microscopy (PFM); conductive forcé miscropy (C-AFM), magnetic force microscopy (MFM), forcé spectroscopy, etc. Capacidad también de realizar medidas de microscopía de efecto túnel (scanning tunneling microscopy, STM) en condiciones ambientales.